首先，氧等離子清洗機的核心部件是等離子體發生器。在這個發生器中，通過強電場、微波激勵等方式，將氣體分子（如氧氣）電離、電子化，從而形成了等離子體。等離子體是由高能量電子和被電離的氣體分子組成的，具有極高的化學活性和物理活性。
其次，等離子體會釋放出大量的電子、離子、自由基等反應物質，與物體表面進行化學反應。這些反應物質可以促進表面之間的化學鍵斷裂、化學鍵形成、新物穩定態的形成等，從而實現表面的去污、脫脂、除臭、除菌等效果；同時，腐蝕性、刻蝕性對物體表面造成的影響相對較小，降低了物體表面的損傷和變形率。
最后，氧等離子清洗機還可以實現物理清洗。在等離子體作用下，物體表面會受到大量的陰極束轟擊、電子撞擊等物理力的影響，從而去除表面上的雜質和污垢。這種物理清洗效果較好，特別是對于微觀結構復雜的器件進行處理時，可以取得非常好的效果。
綜上所述，氧等離子清洗機通過利用等離子體技術、電化學技術和物理化學技術，可以實現高效、無害、環保的表面處理效果。其原理簡單明了，操作方便，能夠廣泛應用于半導體、光電子、精密儀器、生物醫藥等領域中的器件和產品制造過程中。
廣東省深圳市光明區華明城高新產業園A棟5樓 
張經理 17304403275