等離子清洗過程中伴隨著物理作用與化學作用。物理作用機制是通過等離子體中的活性粒子轟擊污染物,使污染物脫離基體表面,由于粒子碰撞該過程產生熱效應;化學作用機制是指高能粒子具有極高活性,接觸污染物后與污染物反應成小顆?;蛐》肿?,反應物多具有較好的揮發性,從而實現對基體的清洗。...
2024-04-16近年來,等離子技術被廣泛用于對高分子薄膜材料的表面改性。等離子體改性相對于其它的一些改性方法,它僅僅對材料的淺表面(<10-8m)進行改性反應,不損傷材料的內部結構,對材料的整體性能幾乎不產生影響,尤其是力學性能,但可以明顯的改善材料表面的極性及結構,進而改善材料的潤濕性能。...
2024-04-15等離子體清洗根據等離子體產生方式不同,可以分為電暈等離子體清洗、輝光等離子體清洗、射頻等離子體清洗、介質阻擋(DBD)等離子體清洗、微波等離子體清洗、大氣常壓等離子體(APPA)清洗。其中,電暈等離子體清洗、輝光等離子體清洗和射頻等離子體清洗一般用作低壓清等離子體清洗,而介質阻擋等離子體清洗、微波等離子體清洗和大氣常壓等離子體弧清洗則作為常壓等離子體清洗。...
2024-04-15等離子清洗機按照等離子發生器的激發頻率不同大致上可分為,40KHz(中頻等離子清洗機)、13.56MHz(射頻等離子清洗機)和2.54GHz(微波等離子清洗機)三種。中頻等離子清洗機,指的就是等離子發生器激發頻率為40KHz的等離子清洗機。...
2024-04-01等離子清洗和等離子去膠都是利用等離子體技術的表面處理技術,它們在原理上有相似之處,但具體應用和目的有所不同。前者主要用于表面的清潔和改性,而后者則主要用于去除特定的物質,如光刻膠。在實際應用中,應根據具體的工藝需求選擇合適的處理技術。...
2024-03-29根據耦合方式分類,等離子清洗機大致可以分為兩種,一種是CCP電容耦合等離子清洗機另一種是ICP電感耦合等離子清洗機。這兩種耦合方式各有優劣。...
2024-03-28在線式等離子清洗設備主要針對集成電路IC封裝工藝,自動將料盒里的引線框架取出并進行等離子清洗,去除材料表面污染,提高表面活性,再自動放回料盒,全程無人為干擾。...
2024-03-26等離子清洗機漏氣可能有以下原因: 氣路部件損壞或老化:長時間使用后,氣路部件可能出現損壞或老化,導致氣路連接處不緊密,進而發生漏氣現象。...
2024-03-22等離子清洗機對薄膜材料表面的刻蝕作用和在材料表面引進大量極性基團這二種因素共同作用使得處理后的薄膜材料表面的粘接性、印刷等性能得到大幅度的提高。...
2024-03-21等離子刻蝕的基本原理是利用所需的等離子體對晶圓表面進行物理轟擊并且同時發生產生易于揮發的化學反應,從而實現對晶圓的刻蝕過程。...
2024-03-18氧等離子體處理親水原理可以認為是受兩個因素的雙重影響:(1)氧等離子體對材料表面的蝕刻效應造成了材料表面形貌在納米尺度的改變;(2)氧等離子體處理后在材料表面引入了新的基團,例如-OH、-COOH等親水基團。需注意的是通過氧等離子體轟擊進行的親水處理一般具有時效性。...
2024-03-14等離子清洗技術是一種高效的清洗方法,激發態的氫氣與氧化物發生化學反應,將氧化無還原為單質和水蒸氣,可以很有效的去處表面氧化物。 ...
2024-03-14