等離子清洗機工藝氣體流量（壓力）設置說明
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-12-05
等離子清洗采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性。一般等離子清洗機可以通過調節氣體流量、處理時間、RF功率來控制處理效果。今天我們主要談下氣體流量（壓力）對等離子清洗效果的影響，來幫助大家理解該如何設置等離子清洗工藝氣體流量。
NAEN-PLASMA
首先我們來了解一下等離子清洗機的的倉體壓力這個概念
倉體壓力反應倉內的壓力是工藝氣體流量、腔體泄露率和真空泵抽速的動態平衡。
接下來我們一起了解下等離子清洗壓力的變化主要影響哪些方面？
物理等離子清洗工藝模式采用的倉體壓力較小。物理等離子清洗工藝要求被激發的離子轟擊工件表面。假如倉體壓力過高，激發的離子在到達工件清洗表面之前就和其他離子產生多次碰撞，減低清潔效果。已激發的離子在碰撞之前所行進的距離稱為離子的平均自由路程，與倉體壓力成反比。物理等離子清洗工藝要求低壓以便于平均自由路程最大化，使碰撞轟擊達到最大。但假如倉體壓力下降太多，就沒有足夠的活性離子在有效的時間內來清潔工件?；瘜W等離子清洗工藝產生的等離子體與工件表面產生化學反應，所以離子數越多越能增加清洗的能力，導致需要使用較高的倉體壓力。
通過對艙體壓力的了解，接下來就可以更直觀的了解工藝氣體流量對于等離子清洗效果的影響。
工藝氣體流量
流量的大小直接導致了形成離子體量的多少，形成了離子體越多，作用于工件表面的反應越強烈，進而清洗效果也可能會越好，但需與射頻功率協調作用。工藝氣體流量同時也是影響艙體壓力的一個重要因素，氣體流量加大后，腔室的真空度降低。流量越大意味著離子越多，但是同時碰撞也會更多，清洗效果反而也可能會更差。
以上就是國產等離子清洗機廠家納恩科技關于等離子清洗機氣體流量的一些說明，希望通過以上講解能夠讓大家對于等離子清洗氣體流量該如何設置有一定的幫助。綜上所述：等離子清洗流量的選擇要根據清洗的基片進行合理選用，當以物理作用為主時應減小氣體流量以增大離子能量，當以化學作用為主時要增大一些氣體流量，保證反應氣體濃度。
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