關于真空等離子清洗機（設備）RF射頻功率大小的一些說明
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2023-04-06
真空等離子清洗設備一般包括真空系統,射頻（RF）電源系統,供氣系統和清洗室,清洗室內安裝有電極架,可以將射頻電極,地極和懸置極按照一定的方式組合放置,以適應不同的清洗場合。清洗時先將器件裝配好,參照它的清洗要求選擇一種電極放置方式后放到清洗室中,抽真空至30pa左右,通入清洗氣體后加射頻電壓后產生等離子體。影響清洗工藝的參數中,真空壓力值由倉體本身焊接密封性等決定,選擇合適的真空泵達到的真空壓力值一般已成為定值,工藝氣體選擇、工藝氣體流量大小、射頻功率、清洗時間等都可以根據工藝要求在等離子清洗設備屏幕上很簡便地調節數值,達到合理的匹配,獲得較好的清洗效果。
一般的工業型真空等離子清洗設備的射頻功率可調范圍為0-1000W和0-600W兩種，小型的等離子清洗機射頻功率為0-200W，也有0-300W的。射頻功率是真空等離子清洗設備的一個重要參數。射頻功率的大小直接影響等離子體的濃度。等離子體的電子密度和電子能量密度受功率的影響很大，隨功率的增加，電子密度和電子能量密度在總體上增加。
射頻（RF）功率
射頻等離子體技術是利用射頻能量使得反應器中產生高頻的交變電磁場，促使氣體激發電離從而形成等離子體，射頻功率的大小會影響等離子體的清洗效果，從而影響后續工藝的可靠性。加大等離子體射頻功率是增加等離子的離子能量來加強清洗強度。離子能量是活性反應離子進行物理工作的能力。射頻功率的設置主要與清洗時間達到動態平衡，一定范圍內射頻功率與清洗時間成反比例關系，增加射頻功率可以適當降低處理時間，但會導致反應倉體內溫度略有升高，所以有必要考慮清洗時間和射頻功率這兩個工藝參數。
綜上所述，真空等離子清洗設備針對不同的材料所選擇適用的功率范圍也有所差別。對于多芯片組件,內部芯片及互連電路對清洗的要求很高，功率條件下參數控制敏感,容易造成損傷，一般選擇適中的功率后再結合調整其它參數得出最為理想的清洗工藝。
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