微波等離子清洗機的三種清洗模式介紹
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-06-01
微波等離子清洗機可分為三種模式，即順流模式、旋轉模式及ECR模式。由于激發頻率高，離子動能小，離子濃度高，化學等離子作用在微波等離子體中占主要部分，可以實現更均勻有效地清洗，在清洗中幾乎沒有物理等離子體所產生的物理沖擊和濺射現象，所以微波等離子清洗機在一些敏感器件制程中的去膠和清洗工藝中具有不可替代性。
順流及旋轉清洗模式原理
順流模式及旋轉模式微波等離子清洗屬于普通的微波等離子體系統，其微波反應腔中不存在穩態磁場，此時微波能量耦合是通過彈性碰撞以及非彈性碰撞實現的。而通過碰撞的方式將微波能量傳遞給電子的關鍵是碰撞幾率和饋入微波能量，如果要使電子的能量達到一定程度，就必須增大電子密度或者增加饋入微波的能量，增加電子密度意味著對氣體的成分及密度要求較高，而氣體密度的增大會對系統的穩定工作造成影響；增加饋入微波的能量則需要增加微波源的功率、或者減少微波傳輸系統的損耗，而在工程上這些都是要受到具體條件限制的。這些問題就造成了普通微波等離子體系統很難產生高密度、高均勻度的等離子體，無法滿足一些特殊工藝的要求。
電子的有效碰撞頻率是放電氣壓的函數，研究表明，對于氦氣，微波激發頻率為時，維持無磁場放電的氦氣氣壓范圍是—。在低氣壓下≤時電子和中性粒子、電子和離子碰撞平均自由程都很長，即電子的有效碰撞頻率很小，在此條件下為維持無磁場放電需要較高的微波輸入功率和高值的諧振腔體，這是難以做到的。
因此普通微波等離子體系統多作為一種對化學反應的催化手段應用在化工領域，或應用于一些基礎的材料處理領域，這些領域都對激發產生的等離子體密、度均勻度要求較低。而在大規模集成電路制造工藝、高質量材料表面改性處理等領域，對等離子體的密度、均勻度、穩定度都要求很高，普通微波等離子體系統或者不能勝任、或者需要靠大幅度增加系統復雜性和成本的方法才能夠滿足要求。
ECR清洗模式原理
電子回旋共振（ECR）微波等離子體系統是微波源與磁場共同組合的一種等離子體產生法，電子在磁場中作旋轉運動，當磁場強度越來越強時，電子旋轉的速度會越快，當磁場強度與微波源頻率相近時產生共振，此共振現象有利于電子吸收微波的能量，并擁有較高能量的電子，有助于等離子體的產生。微波等離子體系統與傳統的微波等離子體系統相比，具有更加優良的綜合指標，而且對微波源和微波反應腔的要求大為降低，提高了材料表面改性處理、微電子、大規模集成電路制造等領域中的低溫等離子體加工水平。
以上就是國產等離子清洗機廠家納恩科技關于微波等離子清洗機的三種清洗模式的簡單介紹。微波等離子清洗具有激發頻率高、 自偏壓小、 離子動能小、 離子濃度高、 化學反應強等特點，可以有效避免靜電損傷、 實現均勻的三維清洗，與傳統等離子清洗（超聲或射頻）相比，微波等離子清洗可以產生具有優良特性的等離子體，所以微波等離子清洗機在集成電路制程中，尤其是可靠性要求極高的軍用集成電路生產過程中發揮著舉足 輕重的作用，市場前景十分廣闊。
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