等離子清洗在納米壓印玻璃晶圓清洗中的應用
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-04-28
微納米加工技術作為一種典型的先進制造技術，其制造精度可達到納米級別，在小型甚至微型元器件、微型芯片及生物傳感器的制造、批量化生產中具有不可取代的作用。納米壓印技術作為新型的光刻技術，具有成本低、分辨率高、效率高、制造流程便捷等優點。
納米壓印工藝流程
納米壓印是納米壓印生產整體流程中最為核心，也是難度最高的環節，整體分為2個部分：子版制作和晶圓玻璃壓印。
1、子版制作（軟膜制作）
由于光柵母版制作成本高，所以不能直接用做生產。因此，必須將光柵母版的結構一比一轉印到不易損壞的子版上，進而復制出多個子版。這就是子版制作環節。首先，需要先制作出光柵母版，然后對母版進行清洗和表面抗粘處理。最后，使用柔性基材進行軟膜壓印、固化、脫膜。通過以上操作，便可復制出多個子版。
2、晶圓玻璃壓印
子版制作完成后，即可開始進行晶圓玻璃壓印。經過晶圓清洗、旋涂勻膠、納米壓印、固化、脫模等流程，便可將子版上的結構轉印到晶圓上面，完成批量生產。
在正式使用模板進行壓印工藝之前，在壓印基底表面涂覆表面性能優異的壓印膠薄膜是保證壓印品質的關鍵。常用的涂膠方式主要有：旋涂法、滾動法、提拉法以及噴霧法。與基底表面涂膠前，對基底進行徹底的清洗是必須的，以防止壓印過程中發生脫膠現象。
等離子清洗玻璃晶圓基底
紫外納米壓印流程
由于晶圓在加工過程中，會與各種有機物、粒子及金屬接觸并產生污染物，所以在晶圓涂膠之前需要對其進行清洗。一般采用等離子清洗的方式對晶圓表面進行清洗，通過等離子清洗,一方面清除了表面顆粒無、有機污染物,得到一個清潔的晶圓表面,另一方面改善了晶圓表面的親水性，清潔的晶圓表面更有助于與壓印膠之間的粘附性。
等離子清洗晶圓
等離子清洗技術利用等離子體內活性分子來清洗晶圓表面。等離子清洗原理與超聲兆聲等濕法清洗不同，在接近真空的環境下，通過射頻電源使內部殘余氣體分子電離，產生等離子體，這些等離子體在電場下加速，之后做高速運動，和被清洗的晶圓表面發生物理碰撞，將表面的污染物去除。
等離子清洗無需清洗劑，空氣就能夠產生等離子體，操作工藝簡單無污染，而且等離子體清洗不但可以清洗晶圓表面，還可以提高表面活性，提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，親水性等，優勢十分明顯，因此等離子清洗在納米壓印行業中應用前景極其廣泛。
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