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          低溫等離子體表面處理儀

          • 產品型號:NE-PE10F
          • 性能特點:射頻電源,多層處理電極板
          • 產品用途:材料表面活化、改性
          • 產品介紹
          • 產品參數
          低溫等離子體表面處理儀主要由供氣控制單元,真空室,等離子發生器,真空泵,等幾部分組成,通過電容式耦合射頻輝光放電的方式產生低溫等離子體。等離子體中含有豐富的離子、電子、自由基等活性粒子,可以對材料表面產生多種效應。在刻蝕和清潔作用的同時,等離子體中的活性粒子將羧基(-COOH)、羥基(-OH)等含氧功能基團引入材料表面,增強材料表面的活性位點,提升材料的表面能,實現材料的表面活化。
           

          低溫等離子體表面處理儀工作流程:


          設定低溫等離子體處理儀參數→樣品放入處理腔正極板上→打開真空泵→待真空度降至100Pa以下→開啟放電電源→處理完畢取出樣品

          低溫等離子體表面處理儀真空室處理腔原理圖如圖1.1所示
           低溫等離子體表面處理儀真空處理腔原理圖
          圖1.1 低溫等離子體表面處理儀真空處理腔原理圖

           

          低溫等離子體表面處理原理:


          等離子體改性高分子材料時,主要是其中的活性粒子起作用。這些活性粒子在高分子材料表面產生許多復雜的作用,包括刻蝕、交聯、表面刻蝕、產生自由基、引入極性基團等。

          極性基團的引入
          在等離子體表面處理時,高分子表面會形成大量自由基,與大氣中的氧接觸后則會發生氧化作用,形成親水性的基團。如羥基、羧基等,會使材料的親水性、粘結性得到改善,同時通過等離子體表面處理之后,聚合物表面的元素含量比例會發生比較明顯的變化。

          等離子處理后還可以在聚合物表面引入各種極性基團,如NH3等離子體或N2和O2混合等離子體可以在高分子表面引入胺基、亞胺基或腈基等。

          表面交聯
          等離子體轟擊聚合物表面,可使聚合物表面產生自由基,正負電子,穩態和亞穩態的原子。其中電子、原子、自由基攻擊聚合物表面而移除聚合物表面的H原子而形成活性網點,聚合物表面的自由基活性點相互反應而形成表面交聯。

          表面刻蝕
          在等離子體處理過程中,等離子體中的活性粒子會高速撞擊到材料的表面,并造成刻蝕作用,使材料表面變得凹凸不平,增加材料表面的粗糙度??涛g主要分為兩種,物理濺射和化學刻蝕。

          低溫等離子體表面處理儀屬于干式處理設備,沒有化學改性中不可或缺的烘干、廢水處理等工序,具有工藝簡單、節約能源、綠色無污染等優點。更重要的是,等離子體處理僅僅涉及材料淺表面,作用深度在納米級別,一般不會影響材料本身的整體性能。

          型號 NE-PE10F低溫等離子體表面處理儀
          射頻電源 13.56MHz
          功率 0-300W可調
          真空度 <30Pa
          工藝氣體通道 兩路(標配,可定制多路)
          腔體尺寸 長230mm×高175mm×深270mm
          腔體材質 不銹鋼
          外形尺寸 長600mm×寬530mm×高574mm

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